Triiodsilan

Strukturformel
Allgemeines
Name	Triiodsilan
Andere Namen	Silicoiodoform
Summenformel	SiHI3
Kurzbeschreibung	farblose Flüssigkeit[1]
Externe Identifikatoren/Datenbanken
PubChem	139463
Wikidata	Q16707472
Eigenschaften
Molare Masse	409,81 g·mol−1
Aggregatzustand	flüssig[2]
Dichte	3,31 g·cm−3[3]
Schmelzpunkt	8 °C[2]
Siedepunkt	220 °C (Zersetzung)[2]
Löslichkeit	Zersetzung in Wasser[4]; löslich in Benzol und Kohlenstoffdisulfid[4];
Sicherheitshinweise
	GHS-Gefahrstoffkennzeichnung ; keine Einstufung verfügbar[5]
	GHS-Gefahrstoffkennzeichnung ; keine Einstufung verfügbar[5]
	Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen.

Triiodsilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der Silane.

Gewinnung und Darstellung

Triiodsilan kann durch eine zweistufige Reaktion von Trichlorsilan mit Anilin in Benzol und dem Reaktionsprodukt mit Iodwasserstoff gewonnen werden.[1]

\mathrm {SiHCl_{3}+6\ C_{6}H_{5}NH_{2}\longrightarrow SiH(NHC_{6}H_{5})_{3}+3\ [C_{6}H_{5}NH_{3}]Cl}

\mathrm {SiH(NHC_{6}H_{5})_{3}+6\ HI\longrightarrow SiHI_{3}+3\ [C_{6}H_{5}NH_{3}]I}

Triiodsilan kann auch durch Erhitzen von Silicium und Iodwasserstoff in Analogie zur Darstellung von Trichlorsilan bzw. Tribromsilan dargestellt werden.[1] Dieses Verfahren wurde bereits 1857 bei der ersten Synthese von Friedrich Wöhler und Heinrich Buff beschrieben.[6]

\mathrm {Si+3\ HI\rightarrow SiHI_{3}+H_{2}}

Bei der Reaktion von Silicium mit einem Gemisch von Wasserstoff und Iodwasserstoff entstehen nur geringe Mengen an Triiodsilan, es kann jedoch durch Reaktion von Trichlorsilan mit Ammoniumiodid in Ammoniak gewonnen werden.[7]

Ebenfalls möglich ist die Darstellung durch Reaktion von Triphenylsilan mit Iodwasserstoff und Aluminiumtrichlorid als Katalysator.[8]

\mathrm {SiH(C_{6}H_{5})_{3}+3\ HI\longrightarrow SiHI_{3}+3\ C_{6}H_{6}}

Eigenschaften

Triiodsilan ist eine farblose, hydrolyseempfindliche, stark lichtbrechende Flüssigkeit, die sich in Wasser zersetzt.[1][4]

Verwendung

Triiodsilan und Diiodsilan können zur Abscheidung von Siliciumschichten verwendet werden.[8][9]

Einzelnachweise

Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band II, Ferdinand Enke, Stuttgart 1978, ISBN 3-432-87813-3, S. 688.
William M. Haynes: CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93rd Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4398-8050-0, S. 88 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
Griffin, Bohn and Company: The Chemical News and Journal of Industrial Science; with which is Incorporated the "Chemical Gazette." A Journal of Practical Chemistry in All Its Applications to Pharmacy, Arts and Manufactures. Chemical news office, 1868, S. 76 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
R. Blachnik: Taschenbuch für Chemiker und Physiker Band 3: Elemente, anorganische Verbindungen und Materialien, Minerale. Springer-Verlag, 2013, ISBN 978-3-642-58842-6, S. 730 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
Dieser Stoff wurde in Bezug auf seine Gefährlichkeit entweder noch nicht eingestuft oder eine verlässliche und zitierfähige Quelle hierzu wurde noch nicht gefunden.
H. Buff, F. Wöhler: Ueber neue Verbindungen des Siliciums. In: Annalen der Chemie und Pharmacie. Band 104, Nr. 1, 1857, S. 94–109, doi:10.1002/jlac.18571040108.
E. G. Rochow: The Chemistry of Silicon Pergamon International Library of Science, Technology, Engineering and Social Studies. Elsevier, 2013, ISBN 978-1-4831-8755-6, S. 1371 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
G. Tamizhmani, Michael Cocivera, Richard T. Oakley, Paul Del Bel Belluz: Some physical properties of undoped amorphous silicon prepared by a new CVD process using iodosilanes. In: Chemistry of Materials. 2, 1990, S. 473, doi:10.1021/cm00010a029.
Patent WO1984000353A1 – Ultra-pure epitaxial silicon, abgerufen am 13. Dezember 2016.

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[brauer-1] Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band II, Ferdinand Enke, Stuttgart 1978, ISBN 3-432-87813-3, S. 688.

[William_M._Haynes-2] William M. Haynes: CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93rd Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4398-8050-0, S. 88 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).

[Griffin,_Bohn_and_Company-3] Griffin, Bohn and Company: The Chemical News and Journal of Industrial Science; with which is Incorporated the "Chemical Gazette." A Journal of Practical Chemistry in All Its Applications to Pharmacy, Arts and Manufactures. Chemical news office, 1868, S. 76 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).

[R._Blachnik-4] R. Blachnik: Taschenbuch für Chemiker und Physiker Band 3: Elemente, anorganische Verbindungen und Materialien, Minerale. Springer-Verlag, 2013, ISBN 978-3-642-58842-6, S. 730 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).

[NV-5] Dieser Stoff wurde in Bezug auf seine Gefährlichkeit entweder noch nicht eingestuft oder eine verlässliche und zitierfähige Quelle hierzu wurde noch nicht gefunden.

[J_L_Ann_Chem1857_104_94-6] H. Buff, F. Wöhler: Ueber neue Verbindungen des Siliciums. In: Annalen der Chemie und Pharmacie. Band 104, Nr. 1, 1857, S. 94–109, doi:10.1002/jlac.18571040108.

[E._G._Rochow-7] E. G. Rochow: The Chemistry of Silicon Pergamon International Library of Science, Technology, Engineering and Social Studies. Elsevier, 2013, ISBN 978-1-4831-8755-6, S. 1371 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).

[DOI10.1021/cm00010a029-8] G. Tamizhmani, Michael Cocivera, Richard T. Oakley, Paul Del Bel Belluz: Some physical properties of undoped amorphous silicon prepared by a new CVD process using iodosilanes. In: Chemistry of Materials. 2, 1990, S. 473, doi:10.1021/cm00010a029.

[google.com-9] Patent WO1984000353A1 – Ultra-pure epitaxial silicon, abgerufen am 13. Dezember 2016.