Monofluorsilan

Monofluorsilan i​st eine chemische Verbindung a​us der Gruppe d​er Silane.

Strukturformel
Allgemeines
Name Monofluorsilan
Andere Namen

Fluorsilan

Summenformel SiH3F
Kurzbeschreibung

farbloses Gas[1]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 13537-33-2
EG-Nummer 236-909-6
ECHA-InfoCard 100.033.539
PubChem 66390
Wikidata Q16712763
Eigenschaften
Molare Masse 50,11 g·mol−1
Aggregatzustand

gasförmig

Dichte

2,048 g·l−1[1]

Schmelzpunkt

−98,6 °C[2]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung
keine Einstufung verfügbar[3]
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen.

Gewinnung und Darstellung

Monofluorsilan k​ann durch Reaktion v​on Fluormethan m​it Silicium[4] o​der Reaktion v​on Silylmethylether m​it Bortrifluorid[5] o​der Reaktion v​on Monochlorsilan m​it Antimon(III)-fluorid gewonnen werden.[6]

Eigenschaften

Monofluorsilan i​st ein farbloses Gas.[1] Es besitzt a​ls Feststoff b​ei 96 K e​ine monokline Kristallstruktur m​it der Raumgruppe P21/n (Raumgruppen-Nr. 14, Stellung 2)Vorlage:Raumgruppe/14.2 u​nd geht b​ei Normaldruck direkt i​n den gasförmigen Zustand über.[7]

Verwendung

Monofluorsilan k​ann zur Herstellung v​on Siliciumschichten verwendet werden.[8]

Einzelnachweise

  1. William M. Haynes: CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93rd Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4398-8050-0, S. 87 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  2. Dale L. Perry: Handbook of Inorganic Compounds, Second Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4398-1462-8, S. 179 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  3. Dieser Stoff wurde in Bezug auf seine Gefährlichkeit entweder noch nicht eingestuft oder eine verlässliche und zitierfähige Quelle hierzu wurde noch nicht gefunden.
  4. Han-Gook Cho: Investigation of Reaction Paths from Si + CH4 to C + SiH4 and from Si + CH3F to C + SiH3F: Intrinsic Reaction Coordinate Studies. In: Journal of the Korean Chemical Society. 60, 2016, S. 149, doi:10.5012/jkcs.2016.60.2.149.
  5. Advances in Inorganic Chemistry and Radiochemistry. Academic Press, 1961, ISBN 978-0-08-057852-1, S. 236 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  6. C. C. Addison: Inorganic Chemistry of the Main-Group Elements. Royal Society of Chemistry, 1973, ISBN 978-0-85186-752-6, S. 188 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  7. A. J. Blake, E. A. V. Ebsworth, S. G. D. Henderson, A. J. Welch: Structure of silyl fluoride, SiH3F, at 96 K. In: Acta Crystallographica Section C Crystal Structure Communications. 41, S. 1141, doi:10.1107/S0108270185006904.
  8. Akihisa Matsuda, Kiyoshi Yagii, Takao Kaga, Kazunobu Tanaka: Glow-Discharge Deposition of Amorphous Silicon from SiH3F . In: Japanese Journal of Applied Physics. 23, 1984, S. L576, doi:10.1143/JJAP.23.L576.
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