Lutetium-Aluminium-Granat
Lutetium-Aluminium-Granat (kurz LuAG, englisch lutetiumaluminium garnet) ist eine künstlich hergestellte kristalline Verbindung mit der chemischen Zusammensetzung Lu3Al5O12. Im Aufbau ähnliche, ebenfalls künstliche Kristalle sind Yttrium-Aluminium-Granat (YAG) und Yttrium-Eisen-Granat (YIG).
Eigenschaften
LuAG ist ein farbloses Material mit einem hohen Brechungsindex (2,1 bei 193 nm Wellenlänge[1][2]). Des Weiteren zeigt es eine vergleichsweise hohe Transparenz im ultravioletten (UV) Spektralbereich. Der Absorptionskoeffizient bei 193 nm liegt bei 1,1 bis 1,4 cm−1[1][3].
LuAG besitzt dieselbe Kristallstruktur wie der bekanntere YAG, das heißt, er kristallisiert höchstsymmetrisch im kubischen Kristallsystem (Kristallklasse kubisch-hexakisoktaedrisch). Allerdings ist die Dichte von LuAG mit 6,71 g/cm³ höher als die von YAG (4,55 bis 4,65 g/cm³), die unter anderem durch die Ersetzung der Yttrium-Ionen durch die schweren Lutetium-Ionen hervorgerufen wird. Dadurch zeigt es bessere Szintillationseigenschaften.[4]
Mit Cer dotiertes LuAG zeigt Szintillation mit Lumineszenz im sichtbaren Spektralbereich. Dies macht es zu einem Kandidaten als Detektormaterial zum Nachweis von hochenergetischen Photonen.[5]
Verwendung
LuAG eignet sich aufgrund seiner hohen Transparenz im UV-Bereich als Material für UV-Linsen, beispielsweise für qualitativ hochwertige Linsensysteme in fotolithografischen Belichtungsanlagen, wie Stepper und Scanner.[1] Durch die Nähe des Bandabstands (6,9 eV[2] entspricht 176,7 nm) zur aktuell genutzten Wellenlänge von 193 nm (ArF-Excimerlaser) bei der Fotolithografie, muss LuAG in hochreiner Form[6] zur Verfügung stehen, denn schon geringe Verunreinigungen würden die Absorption in diesem Spektralbereich merklich ansteigen lassen und das Material würde sich für diese Anwendung nicht mehr eignen.
Einzelnachweise
- Yayi Wei, Robert L. Brainard: Advanced processes for 193-nm immersion lithography. SPIE Press, 2009, ISBN 978-0-8194-7557-2.
- Chris A. Mack Gabriel Y. Sirat, Michael Goldstein: Uniaxial Crystal Last Optical Element for Second- and Third-Generation Immersion Lithography (Memento vom 3. November 2013 im Internet Archive). 4th International Symposium on Immersion Lithography, 8.–11. Oktober 2007 Keystone, Colorado (Memento vom 3. November 2013 im Internet Archive) (Poster; mit weiteren Materialeigenschaften).
- John H. Burnett: High-index materials for 193 nm immersion lithography. In: Proceedings of SPIE. San Jose, CA 2004, S. 611–621, doi:10.1117/12.600109.
- Kamran Said Karim: Herstellung polykristalliner Szintillatoren für die Positronen-Emissions-Tomographie (PET). Forschungszentrum Jülich, 2010, ISBN 978-3-89336-610-1, S. 27.
- Nerine J. Cherepy, Joshua D. Kuntz, Thomas M. Tillotson, Derrick T. Speaks, Stephen A. Payne, B. H. T. Chai, Yetta Porter-Chapman, Stephen E. Derenzo: Cerium-doped single crystal and transparent ceramic lutetium aluminum garnet scintillators. In: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. Band 579, Nr. 1, 21. Juli 2007, S. 38–41, doi:10.1016/j.nima.2007.04.009.
- Lutz Parthier, Gunther Wehrhan, Frank Seifert, Marcus Ansorg, Tilo Aichele, Christoph Seitz: High-Index Lens Material LuAG: Development Status and Progress (Memento des Originals vom 3. November 2013 im Internet Archive) Info: Der Archivlink wurde automatisch eingesetzt und noch nicht geprüft. Bitte prüfe Original- und Archivlink gemäß Anleitung und entferne dann diesen Hinweis.. 2008 SEMATECH Litho Forum, 12.–14. Mai 2008, Bolton Landing (Lake George), NY (Memento des Originals vom 28. Februar 2012 im Internet Archive) Info: Der Archivlink wurde automatisch eingesetzt und noch nicht geprüft. Bitte prüfe Original- und Archivlink gemäß Anleitung und entferne dann diesen Hinweis. (Vortrag; u. a. mit Abbildungen eines LuAG-Einkristall und der Kristallstruktur).
