Hafniumnitrid
Hafniumnitrid ist eine anorganische chemische Verbindung des Hafniums aus der Gruppe der Nitride.
Kristallstruktur | |||||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
_ Hf3+ _ N3− | |||||||||||||
Allgemeines | |||||||||||||
Name | Hafniumnitrid | ||||||||||||
Andere Namen |
| ||||||||||||
Verhältnisformel | HfN | ||||||||||||
Kurzbeschreibung |
dunkelgrauer bis brauner Feststoff[1] | ||||||||||||
Externe Identifikatoren/Datenbanken | |||||||||||||
| |||||||||||||
Eigenschaften | |||||||||||||
Molare Masse | 192,50 g·mol−1 | ||||||||||||
Aggregatzustand |
fest | ||||||||||||
Dichte |
11,7 g·cm−3[2] | ||||||||||||
Schmelzpunkt | |||||||||||||
Löslichkeit |
nahezu unlöslich in Wasser[3] | ||||||||||||
Sicherheitshinweise | |||||||||||||
| |||||||||||||
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen. |
Gewinnung und Darstellung
Hafniummnitrid kann nach den gleichen Verfahren wie Titannitrid dargestellt werden.[5]
- So erhält man Hafniumnitrid bei der Synthese aus den Elementen bei 1400 °C bis 1500 °C.[5]
- Bei der Herstellung von Hafniumnitrid aus Hafnium(IV)-chlorid durch das Aufwachsverfahren wird bei Gegenwart von Wasserstoff (H2 + N2 oder Ammoniak) eine tiefere Temperatur (2000 bis 2400 °C) benötigt als in reinem Stickstoff (2900 °C). Im letzteren Fall erfolgt die Abscheidung bedeutend langsamer als bei Anwesenheit von Wasserstoff.[5]
- Unter Hochdruckbedingungen bildet sich bei Ammonolyse oder Reaktion von Hafniumnitrid mit Stickstoff ein Hafniumnitrid Hf3N4 vom kubischen Th3P4-Typ mit der Raumgruppe I43d.[6]
Eigenschaften
Hafniumnitrid ist ein dunkelgrauer bis gelbbrauner geruchloser Feststoff. Er ist elektrisch leitend und hat eine kubische Kristallstruktur[1] vom Natriumchlorid-Typ mit der Raumgruppe Fm3m (Nr. 225) .[7][6] Durch Leerstellen in der Gitterstruktur beträgt die reale Dichte von Hafniumnitrid nur 11,70 g·cm−3 anstelle der auf Basis von Gitterstrukturanalysen mit Röntgenverfahren bestimmten 13,39 g·cm−3.[2] Es ist ein sehr hartes und beständiges Material[8] und hat eine Vickershärte von 46 GPa[9].
Verwendung
Hafniumnitrid wird als Sputtermaterial zur Erhöhung der Stabilität von Dioden, Transistoren und elektronischen Schaltkreisen verwendet.[8] Es wird auch als Beschichtungsmaterial von Schneidwerkzeugen verwendet,[10] da es der stabilste Hartstoff mit hoher Schmelztemperatur ist.[11]
Einzelnachweise
- Roger Blachnik (Hrsg.): Taschenbuch für Chemiker und Physiker. Band III: Elemente, anorganische Verbindungen und Materialien, Minerale. begründet von Jean d’Ans, Ellen Lax. 4., neubearbeitete und revidierte Auflage. Springer, Berlin 1998, ISBN 3-540-60035-3, S. 479 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche)..
- M. E. Straumanis, C. A. Faunce: Der unvollkommene Aufbau des Hafniumnitrids und das Bindungsproblem. In: Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie. 353, 1967, S. 329–336, doi:10.1002/zaac.19673530514.
- READE: Hafnium Nitride Powder (HfN) (Memento des Originals vom 6. August 2013 im Internet Archive) Info: Der Archivlink wurde automatisch eingesetzt und noch nicht geprüft. Bitte prüfe Original- und Archivlink gemäß Anleitung und entferne dann diesen Hinweis.
- Dieser Stoff wurde in Bezug auf seine Gefährlichkeit entweder noch nicht eingestuft oder eine verlässliche und zitierfähige Quelle hierzu wurde noch nicht gefunden.
- Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band II, Ferdinand Enke, Stuttgart 1978, ISBN 3-432-87813-3, S. 1379.
- Dzivenko, Dmytro: High-pressure synthesis, structure and properties of cubic zirconium(IV)- and hafnium(IV) nitrides. Dissertation (2009), urn:nbn:de:tuda-tuprints-18742
- Werner Martienssen, Hans Warlimont: Springer Handbook of Condensed Matter and Materials Data. Springer, 2005, ISBN 9783540304371, S. 468 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
- Dale L. Perry: Handbook of Inorganic Compounds, Second Edition. Taylor & Francis US, 2011, ISBN 1439814627, S. 194 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
- Derya Deniz: Texture evolution in metal nitride (aluminum nitride, titanium nitride, hafnium nitride) thin films prepared by off-normal incidence reactive magnetron sputtering. ProQuest, 2008, ISBN 9781109037821, S. 6 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
- Serope Kalpakjian, Steven R. Schmid, Ewald Werner: Werkstofftechnik. Pearson Deutschland GmbH, 2011, ISBN 978386894006-0, S. 634 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche)
- Hmt, Hmt, H. M T. Bangalore: Production Technology. Tata McGraw-Hill Education, 2001, ISBN 9780070964433, S. 41 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).