Swift-Hohenberg-Gleichung

Die Swift-Hohenberg-Gleichung (nach d​en beiden US-amerikanischen Physikern Jack B. Swift u​nd Pierre C. Hohenberg) i​st eine mathematische Modellgleichung z​ur Untersuchung v​on Musterbildungsprozessen.[1] Eine mathematisch vereinfachte Form dieser Gleichung beschreibt d​as Muster d​er Faltenbildung v​on Papillarleisten (Dermatoglyphen) a​n Fingern, a​lso das Muster v​on Fingerabdrücken, s​owie das Muster d​er Bildung v​on Rillen a​uf eintrocknenden Rosinen.[2][3]

Die Gleichung

Es handelt sich um eine partielle Differentialgleichung auf einer reellen oder komplexen skalaren Funktion mit zwei räumlichen und einem zeitlichen Argument:

.

Dabei sind

Von Interesse ist vor allem das Aussehen von nach einer hinreichend langen Zeit , d. h. die stabilen Lösungen der Gleichung, sofern solche jemals erreicht werden.

Homogene Lösung

Für ergibt sich als stabile Lösung der Gleichung.

Kritischer Punkt

Das Verhalten um den kritischen Punkt wird nach einer Fouriertransformation des Linearanteils der Gleichung offensichtlich:

  • Im Fall konvergieren die Amplituden zu allen Wellenzahlen gegen Null, es bildet sich also kein Muster aus.
  • Ist , so wachsen die Amplituden einiger überkritischer Wellenzahlen. Die überkritischen Wellenzahlen bilden einen Kreis mit dem Radius . Es bildet sich ein Muster mit der Wellenlänge .

Überkritisches Verhalten

Das überkritische Verhalten für wird durch die Ausformung von bestimmt. Ähnlich wie beim Bénard-Experiment sind die Lösungen typischerweise Rollen oder hexagonale Muster.

Literatur

  • M. C. Cross and P. C. Hohenberg, Rev. Mod. Phys. 65, 851 (1993).
  • J. Swift (Department of Physics, University of Texas, Austin), P. C. Hohenberg (Bell Laboratories, Murray Hill; Physik Department, Technische Universität München): Hydrodynamic fluctuations at the convective instability. Phys. Rev. A 15, 319–328 (1977)

Einzelnachweise

  1. J. Swift, P. Hohenberg: Hydrodynamic fluctuations at the convective instability. In: Physical Review A. 15, 1977, S. 319, doi:10.1103/PhysRevA.15.319.
  2. Holger Dambeck: Mathematiker erklären Muster von Fingerabdrücken. Spiegel Online, 4. Februar 2015, abgerufen am 5. Februar 2015.
  3. Norbert Stoop, Romain Lagrange, Denis Terwagne, Pedro M. Reis, Jörn Dunkel: Curvature-induced symmetry breaking determines elastic surface patterns. In: Nature Materials. 14, 2015, S. 337, doi:10.1038/NMAT4202.
This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. The authors of the article are listed here. Additional terms may apply for the media files, click on images to show image meta data.