International Technology Roadmap for Semiconductors

Die International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) ist eine Prognose über die zukünftige Entwicklung der Halbleitertechnik, die als roter Faden für Chip- und Gerätehersteller gilt. Sie wurde alle zwei Jahre von einem Gremium der weltweiten Experten aus der Halbleiterindustrie aktualisiert. Zusätzlich erfolgt in den Zwischenjahren eine kleine Aktualisierung. Es werden z. B. die zukünftigen Technologieknoten genannt. Die Entwicklung der Leistungsfähigkeit der mikro- und nanoelektronischen Schaltungen orientiert sich dabei am mooreschen Gesetz. Seit 2017 wird die ITRS nicht mehr aktualisiert. Ihr Nachfolger ist die International Roadmap for Devices and Systems.

Geschichte

Mit der fortschreitenden Auslagerung von Produktionsprozessen durch Anbieter von Spezialausrüstungen, entstand die Notwendigkeit einer klaren Entwicklungsplanung, um zukünftige technologischen Bedürfnissen der IC-Herstellung planen und steuern zu können. Seit den 1980er Jahren übernahm in den USA die Semiconductor Industry Association (SIA) die Verantwortung für diese Koordinierung, was zu der Schaffung einer Roadmap im amerikanischen Stil führte, die National Technology Roadmap for Semiconductors (NTRS). Im Jahr 1998 schloss sich die SIA mit ihren europäischen, japanischen, koreanischen und taiwanesischen Kollegen zusammen, um die erste internationale Entwicklungsplanung zu erstellen, die International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS).[1]

Umfang und Themen

Die ITRS umfasst e​ine Gruppe v​on Dokumenten, i​n denen d​ie Anforderungen zukünftiger mikroelektronischer Schaltungen s​owie der benötigten Mess- u​nd Anlagentechnik zusammengefasst werden. Sie gelten a​ls Richtlinie für d​ie Entwicklung i​m Bereich d​er Halbleitertechnik. Zusätzlich g​ibt es n​och mehrere Tabellendokumente m​it Prognosen für d​ie nächsten 15 Jahre. Die Hauptdokumente umfassen folgende Themen:

  • Executive Summary
  • System Drivers
  • Design
  • Test & Test Equipment
  • Process Integration, Devices & Structures
  • RF and A/MS Technologies for Wireless Communications
  • Emerging Research Devices
  • Emerging Research Materials
  • Front End Processes
  • Lithography, beschäftigt sich mit den Techniken zur Strukturierung von Materialbereichen
  • Interconnect, beschäftigt sich mit den elektrischen Verbindungen und den dazwischenliegenden Isolationsbereichen im BEoL
  • Factory Integration
  • Assembly & Packaging
  • Environment, Safety & Health
  • Yield Enhancement, beschäftigt sich mit der Verbesserung der Ausbeute
  • Metrology, beschäftigt sich mit den Anforderungen an die Messtechnik und Prozesskontrolle
  • Modeling & Simulation, beschäftigt sich mit der Modellierung und Simulation

Einzelnachweise
  1. Jean-Baptiste Waldner: Nanocomputers and Swarm Intelligence. ISTE, London 2007, ISBN 1-84704-002-0, S. 50–53.
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