Flächentransistor

Ein Flächentransistor ist eine frühe Konstruktionsform eines Bipolartransistors, der im Englischen als junction transistor bezeichnet wird. Im Gegensatz zum ersten praktisch realisierten Spitzentransistor („Punktkontakt-Transistor“) werden die Emitter- und Kollektorgebiete nicht durch Aufsetzen zweier Metallspitzen kontaktiert und formiert, sondern weisen flächenhafte Kontaktflächen für die drei Halbleiterzonen (Basis, Emitter und Kollektor) auf.[1]

Der erste Flächentransistor wurde bereits 1948 von Shockley beschrieben, aber erst nach dem ersten Spitzentransistor praktisch realisiert, und war ein gezogener Transistor aus Germanium.[2] Das Fertigungskonzept des Flächentransistors hatte sich rasch durchgesetzt, auch da zahlreiche Abwandlungen und weitere Verbesserungen Bipolartransistoren mit besseren Eigenschaften ermöglichen. Zu nennen sind hierbei vor allem der Legierungs- und der Diffusionstransistor. Später folgte der Bipolartransistor in Planartechnik sowie Epitaxialtransistoren. Praktisch gesehen sind nahezu alle heutigen Bipolartransistoren der Gruppe der Flächentransistoren zuzuordnen.

Einzelnachweise

Martin Kulp: Röhren- und Transistorschaltungen: Transistortechnik. Vandenhoeck & Ruprecht, 1970, S. 443 ff. & 553 ff.
Bo Lojek: History of Semiconductor Engineering. Springer, Berlin 2007, ISBN 978-3-540-34257-1, Grown Junction and Diffused Transistors, S. 41 ff.

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[Kulp-1] Martin Kulp: Röhren- und Transistorschaltungen: Transistortechnik. Vandenhoeck & Ruprecht, 1970, S. 443 ff. & 553 ff.

[Lojek-2] Bo Lojek: History of Semiconductor Engineering. Springer, Berlin 2007, ISBN 978-3-540-34257-1, Grown Junction and Diffused Transistors, S. 41 ff.